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國家存儲器基地工程(一期)二階段工程通用配電C標(biāo)段

承建時(shí)間:2020/1/17—2021/5/31

建筑面積:FAB主廠房27.8萬m²,項(xiàng)目總用地114.5萬m²

潔凈面積:7.3萬平米

潔凈級別:千級

分類:
 
 

承包范圍:1 號建筑(12 英寸存儲器生產(chǎn)廠房 1 FAB1)Stage1-3 范圍:含 BUS WAY、I-LINE 盤、ACB 盤、橋架、電纜、照明插座等;5 號建筑(綜合動力站)、6 號建筑(廢水處理站 1)、8 號建筑、18 號建筑 Stage1-3 范圍;

項(xiàng)目概述:國家存儲器基地項(xiàng)目位于武漢市光谷未來科技城內(nèi),項(xiàng)目主要生產(chǎn)12英寸閃存芯片。本工程以設(shè)備采購安裝為主,尤其以母線、插接箱、電纜、工藝盤柜(I-Line盤)、橋架的體量最大。

行業(yè)價(jià)值:長江存儲科技有限責(zé)任公司于2016年7月在中國武漢成立,是一家專注于3D NAND閃存芯片設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售的IDM存儲器公司。長江存儲為全球工商業(yè)客戶提供存儲器產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于移動設(shè)備、計(jì)算機(jī)、數(shù)據(jù)中心和消費(fèi)電子產(chǎn)品等領(lǐng)域。2017年,長江存儲在全資子公司武漢新芯12英寸集成電路制造工廠的基礎(chǔ)上,通過自主研發(fā)和國際合作相結(jié)合的方式,成功設(shè)計(jì)并制造了中國首批3D NAND閃存芯片。長江存儲在武漢、上海、北京等地設(shè)有研發(fā)中心,通過不懈努力和技術(shù)創(chuàng)新,致力于成為全球領(lǐng)先的NAND閃存解決方案提供商。

鳥瞰圖 實(shí)景圖

 

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